解決方案

雷射退火

高產能UV雷射退火設備介紹

「SWA-20USH」 實現以擴大光束尺寸改善吞吐量

<設備規格比較>

<要點>

  • 在維持Top Hat形狀的同時,光束尺寸擴大至φ130um,以實現1.5倍吞吐量
  • 採用SHI獨自設計開發的特殊光學系

■新光学系(採用特殊光學系)

■光束形狀

維持Top hat形狀的同時,光束大小擴大至φ130um。

■SWA-20US的改造

可從現有機SWA-20US進行改造。

■DEMO評價

可提供實施DEMO照射。如有DEMO需求,請透過以下信箱聯絡我們。
MAIL: shi.laser.sales@shi-g.com