XY stage for exposure and high precision inspection system
SA/SL Series
低重心H型構造採用による高い速度安定性、位置決め精度を実現
搭載部品をオプション化することにより様々なお客様のニーズに対応可能
高速高加減速（1m/s、1G）時における高精度駆動を実現する反力処理機構
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Specifications (SA-500)
| 項目 | 下軸 | 上軸 |
|---|---|---|
| ストローク | 475mm | 500mm |
| 最高速度 | 500mm/s | 1000mm/s |
| 駆動系 | リニアモータ | リニアモータ |
| ガイド | エアガイド＋転がりガイド | エアガイド |
| フットプリント | 1240mm×1040mm | |
| 重量 | 1500kg | |
上記記載のModel以外にも各種取り揃えております。
その他詳細については、カタログをご覧いただくか、直接弊社までお問い合わせください。
High-speed support option
当社独自の反力処理ユニット（RFC）は、高加減速移動時にステージの振動を最小限に抑え、高い位置決め精度と整定待ち時間の短縮化を実現します。 このRFCは、ステージの定盤上に搭載された光学系等のアプリケーションへの振動を抑制し、次世代装置に求められる高スループット化に貢献いたします。
High response Z-axis mechanism
当社Z軸機構は、静圧ガイド、ボイスコイルモータ及び独自の高速コントロール技術を用います。 それにより、高精度高応答制御を実現し、スキャン動作中の試料面高さの高速トラッキングを可能にします。
Registered Patents
- 日本
- 2970802、3194246、3438131、3940277、3940388、4095480、4223714、4323087、4327672、4335704、4335425、4231486、4377424、4391883
- 韓国
- 541171、659479、909585
- 中国
- ZL200410055992.4、ZL200410031436.3、ZL200410030272.2、ZL200580013948.X、ZL200580018883.8
- 台湾
- I234333、I316588、I307916
その他特許出願中
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