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半導体・プリント基板

小型サーフェスステージ SA/SL Series

露光・高精度検査装置用XYステージ SA/SL Series

低重心H型構造採用による高い速度安定性、位置決め精度を実現
搭載部品をオプション化することにより様々なお客様のニーズに対応可能
高速高加減速(1m/s、1G)時における高精度駆動を実現する反力処理機構

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SA-500仕様

項目 下軸 上軸
ストローク 475mm 500mm
最高速度 500mm/s 1000mm/s
駆動系 リニアモータ リニアモータ
ガイド エアガイド+転がりガイド エアガイド
フットプリント 1240mm×1040mm
重量 1500kg

上記記載のModel以外にも各種取り揃えております。
その他詳細については、カタログをご覧いただくか、直接弊社までお問い合わせください。

高速化対応オプション

当社独自の反力処理ユニット(RFC)は、高加減速移動時にステージの振動を最小限に抑え、高い位置決め精度と整定待ち時間の短縮化を実現します。このRFCは、ステージの定盤上に搭載された光学系等のアプリケーションへの振動を抑制し、次世代装置に求められる高スループット化に貢献いたします。

高応答Z軸機構

当社Z軸機構は、静圧ガイド、ボイスコイルモータ及び独自の高速コントロール技術を用います。それにより、高精度高応答制御を実現し、スキャン動作中の試料面高さの高速トラッキングを可能にします。

保有登録特許

日本:2970802、3194246、3438131、3940277、3940388、4095480、4223714、4323087、4327672、4335704、4335425、4231486、4377424、4391883
韓国:541171、659479、909585
中国:ZL200410055992.4、ZL200410031436.3、ZL200410030272.2、ZL200580013948.X、ZL200580018883.8
台湾:I234333、I316588、I307916
その他特許出願中

お問い合わせ

住友重機械メカトロニクス株式会社 第一営業部 ステージシステム営業G

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