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レーザアニーリング装置

エキシマレーザアニーリング装置 ELAシリーズ

エキシマレーザアニーリング装置 ELAシリーズ

低温ポリシリコンTFTの量産に最適。
自社製レーザと光学系でモジュール化を追及したELAシリーズ。
基板サイズ730×920mmまでのエキシマレーザアニール装置を標準化。
ELA-TWシリーズは2系統のエキシマレーザ発信器と光学系を含むトータルシステムを搭載した高スループット対応の量産装置です。

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固体レーザアニーリング装置 GLE/SWAシリーズ

固体レーザアニーリング装置 GLE/SWAシリーズ

独自のダブルパルス方式の高性能固体レーザアニール装置。
固体レーザの特徴である高繰り返し、高いパルスエネルギ安定性、メンテナンスフリー、コンパクト設計を備え、次世代開発を促進します。

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レーザパターニング装置

レーザパターニング装置

各種材料に対して様々なパターニング加工をご提供します。
薄膜系太陽電池、カラーフィルタ、PDPなど、近年フラットパネル上に成膜された薄膜をレーザでパターニング加工を行う技術が注目されています。
当社では様々なレーザ加工の経験を生かした薄膜に対するレーザ加工をご提案します。

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お問い合わせ

住友重機械工業株式会社 メカトロニクス事業部 営業部2G(レーザ)